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儀器測(cè)試靈活應(yīng)用廣泛
實(shí)力可靠值得信賴(lài)
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技術(shù)資訊RTP快速退火爐是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用的一種熱處理技術(shù)。與傳統(tǒng)的退火技術(shù)不同,RTP技術(shù)通過(guò)在短時(shí)間內(nèi)快速加熱到高溫,并迅速冷卻,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)材料性能的優(yōu)化。它主要用于半導(dǎo)體芯片的制造過(guò)程中,尤其是在薄膜生長(zhǎng)、離子注入后的退火等步驟中,具有重要作用。一、工作原理RTP快速退火爐的核心是其快速加熱和冷卻的能力。傳統(tǒng)的退火爐通常采用逐步加熱的方式,而RTP則利用強(qiáng)大的輻射加熱源,在數(shù)秒到數(shù)十秒內(nèi)將芯片加熱至所需的溫度。其工作過(guò)程包括以下幾個(gè)步驟:1、加熱階段:爐內(nèi)使用強(qiáng)光源對(duì)待...
LAMBDA導(dǎo)熱系數(shù)儀是一種用于測(cè)量材料導(dǎo)熱系數(shù)的專(zhuān)業(yè)儀器,它在材料熱性能測(cè)試中起著至關(guān)重要的作用。導(dǎo)熱系數(shù)是描述材料傳導(dǎo)熱量能力的物理量,直接影響到材料在不同應(yīng)用領(lǐng)域中的表現(xiàn),尤其是在建筑、電子、航空航天等行業(yè)。LAMBDA導(dǎo)熱系數(shù)儀在材料熱性能測(cè)試中的應(yīng)用,體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:一、材料科學(xué)研究廣泛應(yīng)用于新材料的研究和開(kāi)發(fā),尤其是在高性能材料、納米材料、復(fù)合材料等領(lǐng)域。通過(guò)準(zhǔn)確測(cè)量材料的導(dǎo)熱系數(shù),可以評(píng)估材料在不同條件下的熱傳導(dǎo)性能,進(jìn)而為材料的優(yōu)化設(shè)計(jì)和改進(jìn)提供數(shù)據(jù)支持。...
熱擴(kuò)散率是指材料在單位時(shí)間內(nèi),由溫度差所引起的熱量擴(kuò)散的能力。熱擴(kuò)散率是描述材料熱傳導(dǎo)特性的一個(gè)重要物理量,它與材料的熱導(dǎo)率、比熱容和密度有關(guān)。熱擴(kuò)散率測(cè)量系統(tǒng)可以獲得材料熱傳導(dǎo)性能的相關(guān)信息,這對(duì)材料的選擇、設(shè)計(jì)和工程應(yīng)用具有重要意義。一、熱擴(kuò)散率測(cè)量系統(tǒng)的原理其工作原理通?;谝韵聨讉€(gè)方法:脈沖法、穩(wěn)態(tài)法以及激光閃光法等。它們的共同特點(diǎn)是通過(guò)引入溫度梯度并通過(guò)溫度響應(yīng)來(lái)獲取熱擴(kuò)散率。1、脈沖法:這種方法是將一個(gè)短時(shí)間的熱脈沖加到材料表面,隨后通過(guò)熱成像儀或熱電偶測(cè)量材料表...
介電常數(shù)是物質(zhì)在電場(chǎng)中響應(yīng)的一個(gè)重要物理參數(shù),它反映了物質(zhì)的極化特性,即物質(zhì)在外電場(chǎng)作用下能夠儲(chǔ)存的電能。介電常數(shù)廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子工程、化學(xué)工程等領(lǐng)域,尤其在電氣設(shè)備和高頻通信中具有重要作用。為了準(zhǔn)確測(cè)量材料的介電常數(shù),介電常數(shù)測(cè)定儀應(yīng)運(yùn)而生。一、工作原理介電常數(shù)測(cè)定儀的核心原理是通過(guò)測(cè)量材料在電場(chǎng)中對(duì)電場(chǎng)的響應(yīng),計(jì)算出其介電常數(shù)。一般采用兩種基本的測(cè)量方法:電容法和傳輸線(xiàn)法。1、電容法:在電容法中,測(cè)量電容器的電容變化來(lái)推算介電常數(shù)?;驹硎牵寒?dāng)一個(gè)電介質(zhì)材料放入...
掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡是一種結(jié)合了光學(xué)顯微鏡和掃描探針顯微鏡技術(shù)的先進(jìn)表征工具。與傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡相比,它能夠突破衍射極限,實(shí)現(xiàn)對(duì)物體的超高分辨率成像。通過(guò)利用近場(chǎng)光學(xué)效應(yīng),可以在納米尺度上進(jìn)行成像,成為納米科學(xué)和納米技術(shù)研究中的重要工具。掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡在納米科學(xué)中的應(yīng)用,包括以下幾個(gè)方面:1、納米光學(xué)研究納米光學(xué)是研究光與納米結(jié)構(gòu)相互作用的學(xué)科,在這一領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。傳統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡無(wú)法直接觀(guān)察到比波長(zhǎng)小的納米結(jié)構(gòu),但是它能夠捕捉到這些微小結(jié)構(gòu)與光相互作用的細(xì)節(jié),幫助科學(xué)...
原子層沉積是一種精確控制薄膜厚度的技術(shù),利用氣體反應(yīng)沉積原子級(jí)厚度的薄膜。其最大特點(diǎn)是沉積過(guò)程非常均勻,能夠?qū)崿F(xiàn)原子級(jí)的精度控制,適用于多種對(duì)薄膜質(zhì)量要求高的應(yīng)用領(lǐng)域。原子層沉積系統(tǒng)已經(jīng)在許多領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力,以下是一些主要領(lǐng)域。1、半導(dǎo)體行業(yè)原子層沉積系統(tǒng)在半導(dǎo)體制造中應(yīng)用廣泛,特別是在納米尺度的集成電路(IC)生產(chǎn)中。隨著半導(dǎo)體工藝不斷向更小的尺寸推進(jìn),傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)面臨著薄膜均勻性和厚度控制的問(wèn)題,而它能夠在原子層級(jí)別精確控制沉積,成為制造微電...
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